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技术原理 |
光学显微镜的成像原理，是利用可见光照射在试片表面造成局部散射或反射来形成不同的对比，然而因为可见光的波长高达4000-7000埃，在解析度(或谓鉴别率、解像能，系指两点能被分辨的最近距离)的考量上，自然是最差的。
在一般的操作下，由于肉眼的鉴别率仅有0.2 mm，当光学显微镜的最佳解析度只有0.2 um 时，理论上的最高放大倍率只有1000 X，放大倍率有限，但视野却反而是各种成像系统中最大的，这说明了光学显微镜的观察事实上仍能提供许多初步的结构资料。
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机台种类 |
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图-1 (a) 50-1000X (b) 100-500X / 40-200X / 5-75X (c)50-1000X
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分析应用 |
光学显微镜的放大倍率及解析度，虽无法满足许多材料表面观察之需求，但仍广泛应用于下列之各项应用，诸如：
- 元件横截面结构观察
- 平面式去层次 (Delayer) 结构分析与观察
- 析出物空乏区 (Precipitate Free Zone) 的观察
- 差排线与过蚀刻(Overetch)凹痕的观察
- 氧化叠差(Oxidation Enhanced Stacking Faults, OSF)的研究等
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图-2 (a) Metal (b) Poly (c) OD/AA
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