光学膜厚量测仪 (Thin Film Analyzer )
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技术原理 |
光学膜厚量测仪主要是使用垂直的光源入射样品，侦测反射光谱的非接触技术，不需要任何样本准备就可以测量厚度，适用于半透膜样品，只需一秒钟分析从薄膜反射的光就可确定薄膜厚度，光学膜厚量测仪还可以测量多层薄膜的厚度。
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分析应用 |
- 薄膜厚度量测
- 多层膜厚量测
- 可量测介电层、氧化层、金属膜等，有机、无机膜厚均可量测
- 最小量测尺寸 10um
- 厚度范围：20nm~20um
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机台种类 |
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图-1 Filmetrics F40
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应用实例 |
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图-2 单层薄膜厚度量测 (SiO2：316.38nm)
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图-3 多层薄膜厚度量测 (Si：614.2nm / W：54.63nm / Si3N4：122.4nm)
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常见问题 |
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Q1. 光学膜厚量测仪样品分析尺寸大小限制 ? |
A. 样品载台最大可以放置8吋晶圆不须裂片即可分析，最小可量测约0.5cm左右的样品。
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Q2. 光学膜厚量测仪准确性高吗 ? |
A. 光学膜厚量测仪是利用光源反射的讯号来进行fitting比对，若Goodness of fit数值越接近1时，量测厚度越接近实际厚度；若可提供愈小的厚度范围，则fitting准确率愈高。
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Q3. 光学膜厚量测仪可以量测多层膜吗 ? |
A. 可以，只要您提供样品各层薄膜的结构与概略厚度，搭配资料库就可以为您进行分析。
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Q4. 光学膜厚量测仪是破坏性分析吗 ? |
A. 光学膜厚量测仪属于光学非接触式量测，并不会破坏样品表面的结构。
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Q5. 光学膜厚量测仪可侦测厚度的极限为何 ? |
A. 最薄可以量测到20nm，若小于此厚度建议可搭配XRR或TEM来进行分析。
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联络窗口 |
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