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掃描式電容顯微鏡 (SCM)

技術原理

掃描式電容顯微鏡可觀察二維掺雜影像,並可分辨 N 型區域與 P 型區域,對於掺雜異常分佈所導致的故障及逆向工程分析相當有幫助。除此之外,此分析技術可補其它分析技術之不足,如:二次離子質譜儀 (SIMS) 分析與展阻分析儀 (SRP) 僅能呈現一維分布及 SEM 搭配化學蝕刻染色之分析技術不易精確控制蝕刻率等。

 


圖1 掃描式電容顯微鏡主要應用於二為載子濃度影像的觀察與分析

掃描式電容顯微鏡建立於掃描探針顯微鏡的架構上,因此其平面解析度可達 20 奈米,分析時加 AC 電壓於金屬鍍膜探針上,量測 dC/dV 訊號轉換為二維掺雜分布,可分辨出N型與P型區域及其界面。

 

 

 

 

 

分析應用

  1. N型與P型掺雜分析
  2. P-N接面分布分析
  3. 因掺雜分布異常導致故障/漏電分析
  4. 逆向工程分析掺雜二維分布

 

 

 

機台種類

圖2 Bruker D3100, Multiprobe Hyperion

 

 

 

應用實例


圖2 (a) 截面分析顯示SRAM樣品的摻雜類型及分布、(b) CIS array摻雜分布

 

 

圖3 Trench摻雜平面分布

 

  

 

 

常見問題

Q1. SCM 可以進行濃度的分析嗎 ?

A. 因SCM訊號強度會受樣品表面的情況所影響,所以無法直接從SCM來判定樣品的濃度,建議可以搭配SIMS或SRP來進行濃度的量測。

 

Q2. SCM 解析度最小可以到多少 ?

A. SCM使用Contact mode量測,一般解析度可達0.1um,若需要更加的解析度,本公司還有Nanoprobe高階機台可以進行更高解析度的SCM分析。

 

Q3. SCM 可以做樣品的 Plane View 嗎 ?

A.  可以,在進行Plane View分析之前會先將樣品表面所有結構都去除,然後就可以分析囉!

 

Q4. SCM 可以針對特定 Contact 來分析嗎 ?

A.  可以,針對特定的Contact Array我們會使用特殊定位方式再進行試片製備,確保分析位置的準確性。

 

Q5. SCM 可以提供哪些資訊呢 ?

A.  SCM除了可以提供樣品N/P摻雜分布以外,也可以量測出各區域的尺寸,例如摻雜厚度、Channel length、Trench摻雜深度、Source/Drain大小, N/P well界面等資訊。

 

 

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