光學膜厚量測儀 (Thin Film Analyzer)
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技術原理 |
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光學膜厚量測儀主要是使用垂直的光源入射樣品，偵測反射光譜的非接觸技術，不需要任何樣品準備就可以測量厚度，適用於半透膜樣品，只需一秒鐘分析從薄膜反射的光就可確定薄膜厚度，光學膜厚量測儀還可以測量多層薄膜的厚度。 |
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分析應用 |
- 薄膜厚度量測
- 多層膜厚量測
- 可量測介電層、氧化層、金屬膜等，有機、無機膜厚均可量測
- 最小量測尺寸 10um
- 厚度範圍：20nm~20um
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機台種類 |
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圖-1 Filmetrics F40
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應用實例 |
 圖2 單層薄膜厚度量測 (SiO2：316.38nm) |
 圖3 多層薄膜厚度量測 (Si：614.2nm / W：54.63nm / Si3N4：122.4nm) |
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常見問題 |
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Q1. 光學膜厚量測儀樣品分析尺寸大小限制 ? |
A. 樣品載台最大可以放置8吋晶圓不須裂片即可分析，最小可量測約0.5cm左右的樣品。
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Q2. 光學膜厚量測儀準確性高嗎 ? |
A. 光學膜厚量測儀是利用光源反射的訊號來進行fitting比對，若Goodness of fit數值越接近1時，量測厚度越接近實際厚度；若可提供愈小的厚度範圍，則fitting準確率愈高。
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Q3. 光學膜厚量測儀可以量測多層膜嗎 ? |
A. 可以，只要您提供樣品各層薄膜的結構與概略厚度，搭配資料庫就可以為您進行分析。
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Q4. 光學膜厚量測儀是破壞性分析嗎 ? |
A. 光學膜厚量測儀屬於光學非接觸式量測，並不會破壞樣品表面的結構。
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Q5. 光學膜厚量測儀可偵測厚度的極限為何 ? |
A. 最薄可以量測到20nm，若小於此厚度建議可搭配XRR或TEM來進行分析。
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聯絡窗口 |
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